El Perú Art Fashion Week (PAFW) cerró con éxito su cuarta edición, consolidándose como una de las plataformas de moda emergente más importantes del país. El evento reafirmó su compromiso con impulsar nuevos talentos del diseño nacional y fortalecer la industria creativa peruana.
La edición 2025 se desarrolló a lo largo de tres días con actividades dedicadas al arte, la moda y la cultura. El programa incluyó un fórum especializado, un lanzamiento oficial y un esperado fashion show que reunió a diseñadores, marcas y referentes del sector.
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Cinco diseñadores presentaron sus colecciones en la pasarela principal: Matt Couture, Emilio Bibiloni, Anais Trixsy, Johana Pastor y Piero Solórzano. También participaron marcas de moda teen y kids como Jammali, YourCloset y Kua Moda, ampliando la variedad de propuestas en escena.
La Escuela SISE tuvo un papel clave al albergar dos de los tres eventos oficiales. En su sede de Santa Beatriz se realizaron el casting para nuevas modelos y el fórum “Ecosistema del diseño peruano”, con la participación de destacados exponentes de la moda, el diseño y las comunidades artesanales.
El lanzamiento oficial se realizó en el restaurante Paralelo, aliado del PAFW por tercer año consecutivo. Allí los diseñadores adelantaron parte de sus colecciones y se reunió a invitados, marcas del sector textil y representantes de la industria de la moda.
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El fashion show final convocó a influenciadores, prensa, profesionales del rubro y seguidores del diseño. La organización estuvo a cargo de Miguel Rivera, director del PAFW, junto a Karina Rivas, Anabel de la Cruz y Johan Vera, además de diseñadores egresados de la carrera de moda de SISE. Empresas como Ulike Telas, Colortex y otras marcas brindaron apoyo institucional.
El PAFW cerró su cuarta edición reafirmándose como una vitrina clave para el talento emergente del país. La organización adelantó que la quinta edición llegará con una nueva temática, nueva locación y propuestas renovadas para seguir fortaleciendo la presencia de la moda peruana en la región.
